電子部品、ウエハーなど、精密、両面パターン加工の要求精度の高まり
半導体に使われるウエハーやMEMS、水晶デバイス、セラミック基板、電子部品など、両面露光パターンや微細な形状が増え、小型、精密部品化が進んでいます。
生産技術や検査工程において、ワークの両面への加工を行ってその検査を行う際、下記のようなお悩みはありませんか？
・貫通穴の表裏位置ずれを正確に確認したい
・ワーク片面ずつの検査となっており、位置合わせが面倒で工数もかかる
・表裏パターンの線幅や寸法の計測を個人差がないように計測したい
・担当をしていた作業者が退職してしまった
両面顕微鏡位置ずれ計測システムにて高精度検査、工数の削減！
両面露光や微細形状部品への表裏の位置ずれ計測などの高精度の検査方法として、【両面顕微鏡 位置ずれ計測システム】を検討してはいかがでしょうか。
表裏の位置精度や寸法が、同軸上で計測・確認ができ、高精度に要求されている精密部品の検査において、従来は熟練の技術で何とか実施できていたものや、個々の作業者のスキルレベルによって寸法の差異が生じていたもの、測定ができなかったものを高精度かつ簡易に自動化できるようになる計測システムです。
従来は表裏の位置ずれ検査を行うにあたっては、試料を裁断したり、検査治具の製作をおこなったり、表裏の段取りを変えて行うなど、片面検査の倍以上の工数がかかっていましたが、両面同時に行う事により、片面検査の1/2以下の工数で検査が完了します。
特徴
・ワーク表裏の位置精度や寸法を同軸上で計測、確認可能
・ワーク両面の位置ずれは±0.5μmで測定
・両面ともにオートフォーカスカメラを搭載可能、再現性が高い測定が可能
・下側にIRカメラを搭載可能、内部の位置ずれも計測可能
・表裏映像重ね合わせ機能を搭載、形状の違いを計測することも可能
活用分野(実績例)
半導体・・・水晶ウエハー(両面露光)、露光装置、LEDセラミック基板、水晶振動子、MEMSなど
両面にパターンを形成するためのアライメントマークの表裏位置ずれ検査
電機/OA機器・・・液晶パネル、表裏形状パターン検査、インクジェットノズル、メッシュフィルターなど
電子部品・・・セラミックコンデンサ、抵抗の表裏検査、金属板チップ抵抗の微小幅測定など
他にも記載以外の事例が多数ございますのでお気軽にご相談を頂ければ幸いです！