部材の洗浄、中でも金属イオンの除去を目的として､フッ酸洗浄をされているお客様は特に半導体業界に多いかと思います｡もし､治工具などの洗浄が不十分で金属汚染がされていた場合に何が起こるか考えてみましょう｡

例えば､炉内で使用する治工具が金属汚染されている状態で成膜や熱処理に使用してしまうと、製品自体にキャリアとなる金属イオンが拡散してしまいロットアウトとなる可能性があります。

高温の炉内では、金属イオンの拡散がより顕著となり、繰り返し使用することで多くの不良製品を作り込んでしまう恐れがあります。このようになってしまうと全ての治工具の交換が必要となってしまいます。

このようなことにならないよう治工具類は定期的に薬液洗浄を行いますが､それがどれだけキレイになっているかまで確認をしているお客様は少ないかと思います｡

洗浄槽内の薬液の金属イオン元素を使用前・使用後で分析することで､プロセス管理の改善が出来ます!

今回、希フッ酸を用い治工具に付着した汚れ､特にAlとFeに絞って､薬液内に落ちているかをICP-MSで分析確認しました｡

これは、弊社で薬液循環ラインを構築し金属イオン除去フィルタを提案していたところ、しっかりと金属イオンが除去されているかも確認が出来ないか､というお客様のご要望を叶えたことでプロセス管理の改善につながった事例となります｡

誘導結合プラズマ質量分析装置（ICP-MS）

下のグラフは、ウェーハ表面の酸化膜をフッ酸でVPD（気相分解）処理し回収した液をICM-MSで定性分析した分析結果例となります。

この結果をもとにしてお客様にて金属元素の管理基準を設けることで、適切な洗浄薬液の交換頻度が管理でき、安定した製品品質を維持することができました。

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